檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "plasma".ekeyword (精準) and cadvisor.raw="林舜天"
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12吋半導體製程中之化學氣相沉積設備反應室內,所需之精密氧化鋁陶瓷,必須具備有高純度、能抵抗電漿環境中的侵蝕性氣體與300mm以上大尺寸物件的特性。所以,胚體成型的技術是一項重要課題,更需要鑽石工具…
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熱噴塗氧化鋁製程提供了中高功率散熱模組之導熱絕緣層一種新的製作方法。傳統網印製程之氧化鋁/銅複合材料,由於製程限制使得氧化鋁塗層厚度無法降低,在高溫下與銅材之間有剝落的現象產生,導致氧化鋁塗層熱阻抗…